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化学试剂---CMOS级!!!

2018.04.04
(高纯半导体级)化学品,适用于中大规模集成电路、半导体分立器件及硅材料等生产领域,可满足微电子行业对专用高纯化学品的需求。

       MOS级化学品杂质最高含量为0.01-10ppm,有的可降低到ppb数量级,尘埃颗粒指标(粒径≥0.2μm,≤0.5μm)控制在≤20个/ml的水平。

       CMOS级化学品金属杂质含量小於10ppb。
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